长管内壁溅射镀膜系统

长管内壁溅射镀膜系统

型号：DST-NEG10L300

本设备专为细长管道（直径≥10mm，长度≤2m）内壁设计，通过高精度磁控溅射工艺在管内沉积涂层的一套设备，专为实验室应用需要而开发的管内壁磁控溅射镀膜试验平台。该系统兼容直流和射频溅射源，溅射金属（Ti-Zr-V）、非金属（Al2O3）及化合物薄膜(如：ITO)等；广泛应用于科研院所、实验室制备单层或多层薄膜，以及新材料、新工艺研究。

   设备原理

磁控溅射镀膜在充氩（Ar）的真空环境中，管内通入直流高压，激发环形阴极靶材产生等离子体。Ar⁺离子轰击靶材，溅射出的靶材原子/粒子沉积在旋转/平移的管道内壁，形成纳米晶目标涂层。  

NEG涂层工艺：

NEG激活机制涂层在空气中稳定，需在真空环境中加热至**350-450℃**（保持1-2小时），使表面氧化层扩散至体相，暴露出活性金属表面。激活后涂层对活性气体具有化学吸附能力（H₂解离吸附，CO/O₂化学键合）

关键技术参数

  设备主要优势

l 举例：

NEG涂层的应用

l 分布式高效抽气：涂层覆盖整个管道内壁，消除流导限制，尤其适合长距离管道系统（如粒子加速器束流管）。  

l 超洁净真空环境：无油吸附，减少碳氢污染，真空度可达10^-5 Pa量级。  

l 一劳永逸的维护周期：单次镀膜后，激活的NEG涂层可持续工作数年（视气体负载），大幅降低运维成本。  

复合性能强化：Ti-Zr-V三元合金在低温（200℃）下即可激活，兼具高机械强度与抗粉尘脱落特性

主要应用领域